מהי ליטוגרפיה אולטרה סגולה קיצונית (euvl)? - הגדרה מטכנולוגיה

הגדרה - מה המשמעות של ליטוגרפיה אולטרה סגולה קיצונית (EUVL)?

ליטוגרפיה אולטרה סגולה קיצונית (EUVL) היא טכניקת ליטוגרפיה מתקדמת ומדויקת ביותר המאפשרת ייצור של שבבים עם תכונות קטנות מספיק כדי לתמוך במהירויות שעון של 10 Ghz.

EUVL עושה שימוש בגז קסנון טעון-על, הפולט אור אולטרה-סגול ומשתמש במראות מיקרו מדויקות מאוד כדי למקד את האור על גבי הסיליקון כדי לייצר רוחבי תכונה עדינים עוד יותר.

Techopedia מסביר ליטוגרפיה אולטרה סגולה קיצונית (EUVL)

לעומת זאת, טכנולוגיית EUVL משתמשת במקור אור ובאורות אולטרה סגול כדי למקד את האור. זה לא מדויק בגלל מגבלת העדשות.

תהליך EUVL הוא כדלקמן:

1. לייזר מכוון לגז קסנון המחמם אותו ליצירת פלזמה.
2. הפלזמה מקרינה אור בגודל 13 ננומטר.
3. האור נאסף בקבל ואז מכוון למסכה המכילה את פריסת הלוח. המסכה היא למעשה רק ייצוג דפוסי של שכבה יחידה של השבב. זה נוצר על ידי החלת בולם על חלקים מסוימים של המראה אך לא על חלקים אחרים, וכך נוצר דפוס המעגל.
4. דפוס המסכה משתקף על סדרה של ארבע עד שש מראות, שהן הולכות וקטנות יותר ויותר בכדי לכווץ את גודל התמונה לפני שהיא ממוקדת בפיסת הסיליקון. המראה מכופפת מעט את האור כדי ליצור את התמונה, בדומה לאופן בו עדשות המצלמה פועלת כדי לכופף אור ולהעלות תמונה על סרט.